GB/T17626 的本部分考虑在混波室中的电气和/或电子设备的抗扰度试验、有意或无意辐射发射试验和屏耐效能试验。

本部分建立了实施这此试验所需的试验程序 本部分仅考直辐射现象
本部分的目的是建立一个使用混波室评估电气和/或电子设备在射频电磁场中的性能和确定电气电子设备的辐射发射等级的通用规范。
注;本部分规定了电磁镉射对设备影响和所关心设备电磁辐射发射的试C脸方法。电磁知射的仿真利演量不足比以定
量确定电磁辐射对设备的影响。规定试验方法的主要日的是使试验结果具有充分的可再现性和可重复性以及对电磁效应进行定性分析。
本部分的目的不是规定适用于特定设备或系统的试验方法，而是为所有相关的产品委员会提供通用的参考基准。产品委员会应咨询全国无线电干扰标准化技术委员会或全国电磁兼容标准化技术委员会选择辐射发射限值和试验方法。由产品委员会负责对其管辖范围内的设备选择合适的试验方法和抗扰度限值，也可以采用诸如 IEC 61000-4-3、CISPR 16-2-3 和 CISPR 16-2-4 等标准中的其他方法"。

《GB T 17626.21-2014 电磁兼容 试验和测量技术 混波室试验方法》